杨智

       诺发系统有限公司近日为300mm晶圆工艺推出该公司在市场上的光刻胶干法去除系统中的产品GAMMA Express。GAMMA Express是同时适用于前段(FEOL)和后段(BEOL)工艺的单一产品平台，它为65nm和45nm节点普通光刻胶去除和高剂量离子注入光刻胶去除(HDIS)提供了水平的技术、可靠性和生产力。
　　目前，GAMMA Express正在进行测试评估，预计将于第四季度正式用于生产。